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概 述 | ||
X射線晶體分析儀應(yīng)用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如:單晶定向、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、 測定點(diǎn)陣參數(shù)、測定殘余應(yīng)力等。 | |||
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X射線發(fā)生器 | ||
管電壓:10~60kV由單片機(jī)自動(dòng)控制(1Kv/step);管電流:5~80mA由單片機(jī)自動(dòng)控制 (1mA/step);管電壓、管電流穩(wěn)定度≤0.3‰;額定輸出功率:3kW;單片機(jī)自動(dòng)定時(shí), 時(shí)間任意選擇;有無壓、無鎏、過壓、過流、過功率、無水、X射線管超溫保護(hù)。 | |||
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制冷冷卻系統(tǒng) | ||
該裝軒自帶制冷系統(tǒng),無需外接水循環(huán),無需外接水循環(huán),并自動(dòng)控制水溫及顯示X射 | |||
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X射線防護(hù)罩 | ||
采用高密度、高透光性的鉛玻璃作為X射線防護(hù)裝置,外射線量不大于2.5μSv/hx | |||
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X射線管 | ||
額定功率:2kW |
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相 機(jī) | ||
可配勞厄粉末(國產(chǎn))或紀(jì)尼葉相機(jī)(進(jìn)口) | |||
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